荐书 | 揭开光刻机的神秘面纱
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推荐人/ 蔡一茂
深刻与易懂的大作让你了解集成电路装备里的王冠——光刻机
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推荐书籍
《光刻机像质检测技术》（上下册）
王向朝，戴凤钊，科学出版社，2021年
光刻机是集成电路装备中最复杂最精密的系统，在集成电路被社会广泛关注的今天，它作为现代高科技生产工具的典范仍然笼罩着神秘的光环。
光刻机是一个集大成的系统，除了光源、光路系统之外，它的像质检测技术同样起到关键作用。王向朝研究员等人撰写的《光刻机像质检测技术》，虽然聚焦在像质检测技术，但是也有大篇幅的光刻机整体系统的介绍。作者以长期从事光刻机研究的深厚功底，用整整上下两册超过140万字，既深刻丰富地描写了光刻机像质检测技术的科学原理和工程技术，又深入浅出地对光刻机做了很好的科普，使得这本书除了可以作为集成电路从业人员的重要参考书之外，也可以让广大科技爱好者受益。
推荐人简介
蔡一茂，北京大学微纳电子学系教授，研究领域为先进存储器、柔性电子器件、神经形态器件及类脑芯片技术。
书籍及作者简介
光刻机像质检测技术是支撑光刻机整机与分系统满足光刻机分辨率、套刻精度等性能指标要求的关键技术。本书系统地介绍了光刻机像质检测技术。介绍了国际主流的光刻机像质检测技术，详细介绍了本团队提出的系列新技术，涵盖了光刻胶曝光法、空间像测量法、干涉测量法等检测技术，包括初级像质参数、波像差、偏振像差、动态像差、热像差等像质检测技术。本书介绍了这些技术的理论基础、原理、模型、算法、仿真与实验验证等内容。以光刻机原位与在线像质检测技术为主，也介绍了投影物镜的离线像质检测技术，涵盖了深紫外干式、浸液光刻机以及极紫外光刻机像质检测技术。
（来源：科学出版社）
本书作者王向朝为中国科学院上海光学精密机械研究所研究员，国家科技重大专项“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”（02专项）总体专家组专家，长期从事高端光刻机技术、纳米精度光学测量技术、生物医学光学成像技术等领域研究。
（来源：科学出版社）
设计：不言
排版：大萌
美编：农民
责编：理趣
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